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產品名稱:

OLYMPUS奧林巴(ba)斯金相(xiang)顯微鏡(jing)GX53

產品類(lei)別:
OLYMPUS奧林巴斯金相顯微鏡GX53
快速分析厚的大樣品材料
GX53顯微鏡設計用于鋼鐵,汽車,電子和其他制造行業,使用傳統的顯微鏡觀察方法可以很難捕捉到清晰的圖像。結合OLYMPUS Stream圖像分析軟件,顯微鏡簡化了從觀察到圖像分析和報告的檢查過程。
  • 詳細(xi)內容

OLYMPUS奧林巴斯金相顯微鏡GX53

快速分析厚的大樣品材料

GX53顯微鏡(jing)(jing)設計用于鋼鐵,汽車(che),電(dian)子和其他制造行(xing)業,使用傳統的顯微鏡(jing)(jing)觀察方法可以很難捕捉到清晰(xi)的圖像(xiang)。結合OLYMPUS Stream圖像(xiang)分析(xi)軟件,顯微鏡(jing)(jing)簡化了從觀察到圖像(xiang)分析(xi)和報(bao)告的檢查過程。

快速檢查,*的功能

快速觀察,測(ce)量和分析冶金結構。

高級分析工具

1.組合(he)觀察方(fang)法產(chan)生出色的圖(tu)像

2.輕松創建全景圖像

3.創建全焦點圖像

4.捕捉(zhuo)明亮和黑(hei)暗的(de)地方

 

優化材料科學

1.為材料科學設計的軟件(jian)

2.符合(he)工業(ye)標準的冶金分析

 

用戶友好

即使(shi)是(shi)新手,也可(ke)以舒適地進行觀(guan)察,分(fen)析結果和(he)創(chuang)建(jian)報告。

1.輕松恢復顯微鏡(jing)設置

2.用戶指南有(you)助于簡(jian)化高級分析

3.有效的報告生成

高級成像技術

我們(men)成熟(shu)的光學(xue)和(he)(he)成像技術提(ti)供清晰的圖像和(he)(he)可靠的結果。

1.可(ke)靠的光學(xue)性能:波前像差控制

2.清晰的(de)圖像(xiang):圖像(xiang)陰影校正

3.色溫*:高強(qiang)度白光LED照明

精確的測量(liang):自動(dong)校準(zhun)

高級成像技術

模塊化

選擇您(nin)的應用程序所需的組件(jian)。

1.按照(zhao)自(zi)己(ji)的方式(shi)構建您的系統:具有(you)各(ge)種可選(xuan)組件(jian)的*可定制(zhi)的系統

模塊化

高級分析工具

GX53顯微鏡的(de)(de)(de)各(ge)種觀(guan)察能力提供(gong)(gong)清晰,清晰的(de)(de)(de)圖(tu)(tu)像(xiang),因此(ci)您可以可靠地檢測樣品中的(de)(de)(de)缺(que)陷。OLYMPUS Stream圖(tu)(tu)像(xiang)分析軟件的(de)(de)(de)新照(zhao)明技術和(he)圖(tu)(tu)像(xiang)采(cai)集選項為您提供(gong)(gong)更多的(de)(de)(de)選擇來(lai)評(ping)估您的(de)(de)(de)樣本(ben)并記錄您的(de)(de)(de)發現。

無形變成可見:MIX技術

MIX技術將暗(an)場與(yu)另一(yi)種觀測方(fang)法(如明(ming)場或偏(pian)振)結(jie)合在(zai)一(yi)起(qi),使您能夠查看傳統顯微鏡難以看到的樣品(pin)。圓形LED照(zhao)明(ming)器具有(you)定(ding)向暗(an)場功能,其中一(yi)個或多個象限(xian)在(zai)給定(ding)時間(jian)被照(zhao)亮,減少樣品(pin)的光(guang)暈以更好地觀察表(biao)面紋理。

印刷電路板的橫截面

 

印刷電路板的橫截面 - 明場

印刷電路板的橫截面 -  Darkfield

印刷電路板的橫截面 - 混合

 

明場  
基板層(ceng)和通孔是(shi)不(bu)可(ke)見(jian)的。

 

黑暗  
的痕跡是無形的。

 

混合:明場+暗場所  
有(you)組件(jian)都(dou)清晰(xi)地表示(shi)出來。

 

不銹鋼

 

不銹鋼 - 明視野

不銹鋼 -  Darkfield

不銹鋼 - 混合

 

明視野  
紋理是不可觀測的。

 

黑場象限  
顏色信息被消除。

 

混合:明場+黑場象限  
材料的(de)顏色和紋理都是(shi)可見的(de)。

輕松創建全景圖像:即時MIA

通過多重圖像對齊(MIA),您只(zhi)需移(yi)動手動舞臺(tai)上的XY旋鈕即可將圖像拼接在一起 - 電動舞臺(tai)是可選(xuan)的。OLYMPUS Stream軟件使用(yong)模式識別功(gong)能生成全景(jing)圖像,非常適(shi)用(yong)于檢查滲(shen)碳和金(jin)屬流動情況。

螺栓的金屬流動

 

使用XY旋鈕調整舞臺位置。

螺栓的金屬流動

螺栓的金屬流動 - 可以看到金屬流動的全部條件。

 

使用XY旋(xuan)鈕調整舞臺位置。

 

 

 

可以(yi)看到金屬流動(dong)的全部情況。

創建全焦點圖像:EFI

OLYMPUS Stream軟件的擴展焦點(dian)(dian)成像(EFI)功能捕捉高度超出(chu)焦點(dian)(dian)深度的樣品(pin)的圖(tu)像。EFI將這(zhe)些圖(tu)像疊加在一起以創建(jian)樣本的單個(ge)全焦點(dian)(dian)圖(tu)像。即使在分析(xi)具有不平(ping)坦表面(mian)的橫截面(mian)樣品(pin)時,EFI也(ye)會創建(jian)*聚焦的圖(tu)像。

EFI可以使用手動(dong)或機動(dong)Z軸,并(bing)創建一個高度圖(tu)來顯(xian)示結構。

樹脂部件

 

用聚焦手柄調整物鏡的高度。

EFI自動捕獲并疊加多個圖像,以創建樣品的單一對焦圖像。

*聚焦的圖像被創建。

 

用(yong)聚焦手柄調整物(wu)鏡的高度(du)。

 

EFI自(zi)動(dong)捕獲并疊加多個圖像,以創(chuang)建樣品的單一對焦圖像。

 

*聚焦的圖像被創(chuang)建。

 

使用HDR捕捉明亮和黑暗的區域

使用高級圖像處理,高動態范圍(HDR)可調整圖像內亮度(du)的差異,以(yi)減少(shao)眩光。這也有(you)助于提高低對比度(du)圖像的對比度(du)。HDR可用于觀察電子設備中的微小(xiao)結構,并識別金屬晶界。

金盤子

 

有些地區有眩光。

使用HDR清晰地顯示黑暗和明亮的區域。

 

有些地區有眩光。

 

使用HDR清晰地(di)顯示(shi)黑(hei)暗和(he)明亮的區域。

 

鉻擴散涂層

 

對比度低,不清楚。

增強與HDR的對比

 

對比度低,不清楚。

 

增強與HDR的對比

 

微觀結構中的晶粒尺寸

測量晶粒尺寸并分析鋁,鐵素體和奧氏體等鋼鐵晶體結構以及其他金屬的顯微組織。 
支(zhi)持的標準:ISO,GOST,ASTM,DIN,JIS,GB / T

鐵素體晶粒的顯微組織

 

糧食上漿攔截解決方案

糧食上漿平臺與第二階段的解決方案

評估石墨球化率

評估鑄鐵樣品(結節狀和蠕蟲狀)中的石墨球狀度和含量。分類石墨節點的形式,分布和大小。 
支(zhi)持的(de)標準:ISO,NF,ASTM,KS,JIS,GB / T

球墨鑄鐵顯示球墨鑄鐵

鑄鐵解決方案

鑄鐵解決方案

高純鋼中非金屬夾雜物的含量

使用樣本中手工找到的zui差場或zui差包含圖像對非金屬夾雜物進行分類。 
支持的標準:ISO,EN,ASTM,DIN,JIS,GB / T,UNI

含非金屬夾雜物的鋼

包含zui差的現場解決方案

包含zui差的現場解決方案

 

輕松恢復顯微鏡設置:編碼硬件

編碼功能(neng)將顯微鏡(jing)的(de)硬(ying)件設置(zhi)與(yu)OLYMPUS Stream圖(tu)像分析軟件集(ji)成在(zai)一起。觀察(cha)方(fang)法(fa),照明(ming)強度和(he)放大率(lv)可(ke)以記錄并(bing)與(yu)相(xiang)關圖(tu)像一起存儲。這些設置(zhi)很容易(yi)復制,以便(bian)不同的(de)操作人員(yuan)可(ke)以在(zai)有限的(de)培(pei)訓中進行相(xiang)同的(de)質(zhi)量檢查。

 

不同的操作員使用不同的設

使用OLYMPUS Stream軟件檢索設備設置。

所有的操作員可以使用相同的設置。

 

不同的操(cao)作員使用不同的設

 

使用OLYMPUS Stream軟件檢索設備設置(zhi)。

所有的操(cao)作員可以使用(yong)相同的設(she)置。

高效的報告生成

創建(jian)報告往(wang)往(wang)需(xu)要比(bi)拍攝(she)圖像和進行測(ce)量(liang)更長的(de)時間。OLYMPUS Stream軟件(jian)提供直觀的(de)報告創建(jian)功能,可根(gen)據預定義的(de)模板重(zhong)復(fu)生(sheng)成(cheng)復(fu)雜的(de)報告。

高效的報告生成

光(guang)學(xue)系統光(guang)學(xue)系統

UIS2光學(xue)系統(無限(xian)校(xiao)正)

顯(xian)微鏡(jing)主機

反射光照(zhao)明(ming)

通過(guo)鏡像單(dan)元
手(shou)動選擇明(ming)場(chang)/暗場(chang)手(shou)動視 場(chang)光(guang)(guang)闌/帶對中的光(guang)(guang)圈開關開關 
光源:白光LED(帶光強度管理器(qi))/ 12 V,100 W鹵素燈/ 100 W水銀燈/光源 
觀察模(mo)式(shi):明場,暗場,差分界(jie)面對比度(DIC)* 1,簡單偏(pian)振* 1,MIX觀(guan)測(4方向暗場)* 2
* 1需(xu)要(yao)專門(men)用(yong)于此觀(guan)察的滑塊(kuai)。* 2需(xu)要(yao)MIX觀(guan)察配(pei)置。

 

透射光照(zhao)明 
(可選)

透射光站(IX2-ILL100:與視場光闌)是必需的 
PMG3-LWCD:冷凝器(NA 0.6,WD 12毫米),孔徑光闌(lan) 
光(guang)(guang)源(yuan):白光(guang)(guang)LED(具有光(guang)(guang)強管理器)12 V,100W鹵素燈 
觀察模式:明(ming)場(chang),簡單的偏振

 

輸出前端口(可選)

相(xiang)機和DP系統(反(fan)轉圖(tu)像,GX相(xiang)機適(shi)配器)

 

輸出端口(可(ke)選(xuan))

相機,DP系(xi)統(直立(li)圖像)

 

電(dian)子系統

反射光(guang)照明
用于反射光照(zhao)明的 內置LED電源(yuan) 
  連續(xu)可變(bian)光強度轉(zhuan)盤 
  輸(shu)入額定值5 V DC,2.5 A(AC適配(pei)器100-240 V,AC 0.4 A,50 Hz / 60 Hz) 
透(tou)射光照明(需要可選的BX3M-PSLED電(dian)源) 
  通過(guo)電壓(ya)連續可變的光強(qiang)度轉盤 
  輸入額定值5 V DC,2.5 A(AC適配(pei)器(qi)100-240 V,AC 0.4 A,50 Hz / 60 Hz) 
外部接口(需要(yao)選配BX3M-CBFM控制(zhi)盒) 
編碼(ma)端口(kou)連(lian)接(jie)器(qi)×1 
混合滑塊(U-MIXR)連(lian)接器×1 
聽筒(BX3M-HS)連接器(qi)×1 
聽筒(tong)(U-HSEXP)連接器×1 
  RS-232C連接器(qi)× 1,USB 2.0連接器(qi)×1

 

調(diao)焦(jiao)

帶滾輪導軌的齒條和小齒輪 
  手動,粗(cu)細同軸(zhou)手柄; 聚焦行程9 mm(臺面(mian)上方2 mm,臺面(mian)下7 mm) 
  每轉的細手(shou)柄行程:100μm(zui小(xiao)刻度:1μm) 
  每個旋轉的粗手柄(bing)行程:7 mm 
  帶(dai)有用于粗對(dui)焦的(de)扭矩調節環 
  具(ju)有(you)上限用于粗調焦的擋塊

目鏡

Widefield(FN 22)

倒立(li)式:雙目(U-BI90,U-BI90CT),三目(U-TR30H-2),雙目(U-TBI90)

轉盤

亮區:4至7個,類型:手(shou)動/編碼,居中:啟用/禁用 
亮區/暗區孔:5至6個,類(lei)型:手動/編碼,居中:啟用/禁用

載物臺

為GX(X / Y行(xing)程:50×50毫米,zui大負載(zai)5千克)右手柄階段 
彈性右手柄階段,左(zuo)短(duan)柄階段(每(mei)個(ge)X / Y行程(cheng):50×50毫米,zui大負載1公(gong)斤。) 
滑翔階段(duan)(zui大(da)負載1公斤(jin)) 
一套淚珠和長孔類型(xing)

重(zhong)量

約。25公(gong)斤(顯微(wei)鏡框(kuang)架20公(gong)斤)

環境

·室(shi)內使(shi)用 
·環(huan)境溫(wen)度(du):5至(zhi)40°C(45至(zhi)100°F) 
·zui高相(xiang)對濕度(du):80%,溫度(du)可(ke)達31°C(無(wu)冷凝)· 
  超(chao)過(guo)31°C 88°F)時(shi),相對濕度在34°C(93°F)時(shi)為70%,在37°C 
  (99°F)時為(wei)60%, 在40°C(104°F)時為(wei)50%。 
·污染等(deng)級2(符合IEC60664-1) 
·安裝/過壓類別:II(符合IEC60664-1) 
·電(dian)源電(dian)壓(ya)波動:±10%

 

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